【摘 要】
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采用响应面法中的Box-Behnken中心组合设计（BBD）,研究了对位芳纶短切纤维表面原位生长纳米SiO2粒径尺寸的最佳工艺条件,并考察了无水乙醇（以g表示）、纯水、氨水、TEOS四个因素对
【机 构】
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陕西科技大学轻工科学与工程学院陕西省造纸技术及特种纸品开发重点实验室轻化工程国家实验教学示范中心
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采用响应面法中的Box-Behnken中心组合设计（BBD）,研究了对位芳纶短切纤维表面原位生长纳米SiO2粒径尺寸的最佳工艺条件,并考察了无水乙醇（以g表示）、纯水、氨水、TEOS四个因素对生长的纳米SiO2粒径尺寸的影响,建立了相关的数学回归模型.实验结果表明：各因素对纳米SiO2粒径影响的显著性顺序为纯水（B）〉乙醇（A）〉氨水（C）〉TEOS（D）;优化后的最佳工艺参数为：乙醇276.42 g,纯水43.2 g,氨水18.75 g,TEOS为62.5 g,得到纳米SiO2粒径尺寸为294.8 nm
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