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基于在NaOH介质中，强力霉素对Luminol-KMnO4体系发光反应具有强烈的抑制作用，建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法。强力霉素在0．005～5．0μg·mL^-1浓度范围内，采用不同的KMnO4溶液浓度，分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系，方法的检出限为2．0×10^-3μg·mL^-1。该方法可用于药片中强力霉素含量的测定。