美国HRL实验室在高频GaN研制上取得重大突破

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美国HRL实验室近日公布了一项新型GaN高频功率放大器的研究成果,这项研究将大大推动今后宽带无线接入技术的发展。这是第一个W波段的GaN毫米波单片集成电路,它的功率密度可达2.1W/mm,远远超过同等类型InP的0.26w/mm。这个高性能芯片利用等离子体分子束外延技术生成高掺杂GaN和A HRL Laboratory recently announced a new GaN high-frequency power amplifier research, this study will greatly promote the development of broadband wireless access technology in the future. This is the first W-band GaN millimeter-wave monolithic integrated circuit with a power density of 2.1W / mm, far exceeding 0.26w / mm for the same type of InP. This high-performance chip uses plasma molecular beam epitaxy technology to produce highly-doped GaN and A
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