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在１１００℃恒温氧化条件下，研究了稀土氧化物ＣｅＯ２，Ｇｄ２Ｏ３对ＮｉＡｌ基上形成的α－Ａｌ２Ｏ３膜的生长速率及其粘附性等氧化动力学参数的影响，并在此基础上采用ＳＩＭＳ测量二次离子流强度与阻止电压曲线方法，研究了Ａｌ２Ｏ３膜内及Ａｌ２Ｏ３／ＮｉＡｌ基界面处Ａｌ、Ｎｉ原子间结合能的变化规律。实验结果表明，稀土氧化物存在于氧化膜的晶界等处，具有促进氧化膜的晶粒间“微烧结”作用面提高了原子间的结合能。同