【摘 要】
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在室温下用超高真空磁控溅射系统制备了-系列的Pt（4.0nm）/[Co（0.5nm）/Pt（0.3nm）]3-FeMn（tAFnm）多层膜样品,研究了反铁磁层厚度对于易轴垂直于样品表面的Co/Pt/FeMn多层膜磁性质的影响
【机 构】
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辽宁工程技术大学理学院,复旦大学物理系,同步辐射国家实验室,南京大学物理系固体微结构国家实验室
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（10574065,10128409）,教育部同步辐射创新基金资助项目（20080107S）
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在室温下用超高真空磁控溅射系统制备了-系列的Pt（4.0nm）/[Co（0.5nm）/Pt（0.3nm）]3-FeMn（tAFnm）多层膜样品,研究了反铁磁层厚度对于易轴垂直于样品表面的Co/Pt/FeMn多层膜磁性质的影响.在室温下利用样品的剩磁进行了X 射线磁圆二色测量（XMCD）,结果表明在铁磁/反铁磁界面有反铁磁层铁锰的净磁矩,这些净磁矩仅来自于铁元素.铁的磁矩倾向于垂直于膜面排列.磁测量结果表明,随着铁锰层厚度的增加,交换偏置场H EB 增加直到饱和,而H C 先增加,然后轻微减少,在tAF〉7
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