【摘 要】
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论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现。浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进
【机 构】
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ASML Netherlands B.V.De Run 6501 5504 DR Veldhoven,The Netherlands,ASML Netherlands B.V.De Run 6501,
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论述了第五世代双扫描平台浸液式扫描曝光机的性能和进展。表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现。浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的。为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量。特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的。
The performance and development of the fifth generation double scanning platform immersion scanning exposure machine are discussed. It shows the production value of the high-speed scanning state and the realization of the focusing performance. More critical parts of immersion equipment are related to defects, and improvements to the aircraft are reflected in the level of defects with production value. In order to maintain this level of defect improvement, special stable measurements in wafer applications are required. It is very important that extra-strong edge-cavity bubble removal (EBR) design and wafer bevel linear flow are linear.
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