Wei-Levoy纹理合成算法测试系统的设计与实现

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Wei L evoy算法是一种典型的基于样图的纹理合成算法 ,此算法建立在马尔可夫随机场 (MRF)模型之上 ,具有合成质量较高、合成速度较快、能处理的纹理范围较宽等优点。描述了 Wei L evoy算法测试系统的设计和实现过程 ,并给出了不同输入参数下利用该系统进行纹理合成的结果比较
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