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MZOS结构界面特性的研究
MZOS结构界面特性的研究
来源 :压电与声光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dfvgb345g33
【摘 要】
:
分析了MZOS结构及其Si-SiO2子系统的C-V特性,发现ZnO中的氧空位和溅射工艺过程在Si-SiO2界面引入的界面电荷是影响MZOS结构界面特性的主要因素。研究还表明,低温热退火可以改善MZOS结构的界面特性。
【作 者】
:
曹广军
刘光廷
周子新
杨龙其
【机 构】
:
华中理工大学固体电子学系,东南大学电子工程系,四川压电与声光技术研究所
【出 处】
:
压电与声光
【发表日期】
:
1993年6期
【关键词】
:
MZOS结构
界面特性
氧化锌薄膜
MZOS structure
interface property
anneal
ZnO film
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分析了MZOS结构及其Si-SiO2子系统的C-V特性,发现ZnO中的氧空位和溅射工艺过程在Si-SiO2界面引入的界面电荷是影响MZOS结构界面特性的主要因素。研究还表明,低温热退火可以改善MZOS结构的界面特性。
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