热处理掺锡的磷化铟中1.36eV发光峰的研究

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:pipiyouxi
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本文研究了热处理对高压液封法生长的掺Sn的、掺s的和未掺杂的磷化铟的光致发光光谱的影响.掺Sn的InP在热处理温度高于500℃时出现了1.36eV 发光峰,同样热处理条件下,未掺杂的与掺S的InP材料不存在这个发光峰.研究表明,热处理掺Sn的InP中1.36eV发光峰所对应的发光中心很可能是Sn和V_p构成的复合体. The effect of heat treatment on the photoluminescence (PL) spectra of Sn-doped, undoped and indium-doped indium phosphides grown by high pressure liquid-sealing was investigated in this paper.The InP doped with Sn appeared 1.36 eV when the heat treatment temperature was above 500 ℃ Luminescence peak, the same heat treatment conditions, the undoped and S doped InP material does not exist in this luminescence peak.Studies show that heat treatment of Sn doped InP 1.36eV ​​luminescence peak corresponds to the luminescence center is likely to be Sn and V_p composition Complex.
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