【摘 要】
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介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提
【机 构】
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中国科学院近代物理研究所; 中国科学院研究生院;
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目(60706006,10225523)~~
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介绍了现阶段两种用于聚焦离子束系统的离子源——液态金属离子源和气体场发射离子源的基本原理,并对比了它们的优缺点。由于目前这两种离子源都难以满足纳米加工领域不断提高的技术要求,因此提出了一种用于聚焦离子束的新型离子源——电子束离子源,并介绍了电子束离子源的基本原理,给出了设计参数、模拟结果(20kV的Ar+离子束,发射度约为5.8×10-5π.mm.mrad,束斑约为1μm)和初步的实验结果。
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