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利用SEM、TEM以及x射线衍射,研究了磁控溅射Al膜的退火对膜组织 结构转变的影响。Al膜被磁控溅射在Ni基体上,所得镀膜分别经 100℃、200℃、 300℃、400℃、500℃、550℃和 600℃真空退火。结果表明, 100℃开始 Al膜再结晶; 400℃开始有Al-Ni金属间化合物相生成,随温度升高,金属间化合物相的形成顺序为 Al3Ni—Al3Ni2-Ni3Al AlNi。薄膜的组织也由开始的细颗粒状组织转变为多边形 晶粒组织。