InP中的Be、P共注入及其退火特性研究

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【摘要】

：

本文对InP中的Be单注入和Be、p共注入及其退火特性进行了比较.SIMS和电化学C-V测试结果表明:采用Be、P共注入可以抑制退火过程中的Be扩散再分布,提高载流子的激活率,改善Pn结

【作者】

：

张永刚富小妹潘慧珍

【机构】

：

中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所,中国科学院上海冶金研究所上海,上海,上海

【出处】

：

半导体学报

【发表日期】

：

1989年08期

【关键词】

：

离子注入热退火铍磷化合物半导体

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本文对InP中的Be单注入和Be、p共注入及其退火特性进行了比较.SIMS和电化学C-V测试结果表明:采用Be、P共注入可以抑制退火过程中的Be扩散再分布,提高载流子的激活率,改善Pn结的电特性.与单注入相比,共注入样品Be的激活率提高了近一倍.pn结的击穿电压提高,漏电流明显减小.文中对共注入改善退火特性的机理进行了讨论.

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