【摘 要】
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采用磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同偏压制备了铌镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进
【机 构】
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中国工程物理研究院,表面物理与化学国家重点实验室
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采用磁控溅射离子镀技术在贫铀表面以不同偏压制备了铌镀层,利用X射线衍射仪和扫描电镜对镀层的组织结构进行了表征,利用扫描电镜与俄歇电子能谱仪对镀层与基体的界面特性进行了研究。结果表明：铌镀层平整致密,但存在靶材飞溅颗粒形成的镀层缺陷,铌镀层为体心立方结构,存在择优取向、内应力以及晶粒细化等特性且为纳米镀层;铌镀层沿基体表面的法线方向生长且为典型的柱状结构,其表面为均匀的条状颗粒组织;铌镀层与铀基体结合紧密,且存在＂伪扩散层＂。
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