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研究了氩离子束对 YBCO 薄膜和光刻胶掩膜的刻蚀速率,刻蚀了多种精细的图形,刻蚀后薄膜的 T_c 没有下降.通过测量 Ag 膜与 YBCO 膜的接触电阻,研究了离子束轰击后YBCO 膜表面的状况.
氩离子束刻蚀YBCO薄膜
【摘 要】
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研究了氩离子束对 YBCO 薄膜和光刻胶掩膜的刻蚀速率,刻蚀了多种精细的图形,刻蚀后薄膜的 T_c 没有下降.通过测量 Ag 膜与 YBCO 膜的接触电阻,研究了离子束轰击后YBCO 膜表面
【机 构】
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北京大学物理系,北京大学物理系北京,100871,北京,100871
【出 处】
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低温物理学报
【发表日期】
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1991年5期
【基金项目】
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国家教委优秀青年教师资金,,霍英东基金,,国家超导研究中心的资助
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