CMP中抛光垫的性质研究

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以IC1000/SubaIV抛光垫为例,综述了影响抛光垫性能的各种因素,以文献相关数据为依据,着重分析了抛光温度和修整力对抛光垫性能的影响。从分析结果可以得出:IC1000/SubaIV比单层结构IC1000具有更好的抛光效果;新旧抛光垫性能在0~40℃基本相当;新、旧和没有黏合剂抛光垫的正常工作温度为-2.02~103.64℃,且玻璃过渡温度随着抛光垫厚度的减小而增加;抛光垫在0~50℃具有最小的外形变化。定性得出修整力与抛光精度成反比关系,明确了较小修整深度具备较好的平坦化效果。
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