直流反应磁控溅射方法制备碳掺杂TiO2薄膜及其可见光活性

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室温下通过直流反应磁控溅射的方法,利用碳钛镶嵌靶在Ar/O2气氛中制备了碳掺杂纳米TiO2薄膜,并通过X射线衍射(XRD)、UV—Vis透射光谱以及光电化学的方法对薄膜进行了表征.XRD测试结果表明,靶中碳和钛的面积比小于0.10时,碳掺杂的引入有利于TiO2薄膜的晶格生长,并随靶中碳面积的增加,薄膜的结晶度也相应提高.由透射光谱计算得到的禁带宽度表明,靶中碳和钛的面积比为0.05时,薄膜的禁带宽度由纯TiO2薄膜的3.4eV减小到3.1eV.光电测试结果表明,靶中碳和钛的面积比小于0.10时,碳的引入可
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