【摘 要】
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从90nm技术节点开始，等离子氮化SiON栅氧化层被广泛用作先进的CMOS器件制造。作为传统SiO2栅氧化层的替代材料，SiON栅氧化层因其具有较高的介电常数而能有效地抑制硼等栅极掺杂
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从90nm技术节点开始，等离子氮化SiON栅氧化层被广泛用作先进的CMOS器件制造。作为传统SiO2栅氧化层的替代材料，SiON栅氧化层因其具有较高的介电常数而能有效地抑制硼等栅极掺杂原子在栅氧化层中的扩散。氮化后热退火处理（PoSt NitridationAnneal，PNA）是制备等离子氮化SiON栅氧化层的一个重要步骤，主要用于修复晶格损伤并形成稳定Si—N键，同时在氧化氛围下通过界面的二次氧化反应来修复SiO2／Si界面的损伤。本文通过对传统栅氧制备工艺中PNA单一高温退火工艺的温度、气体氛围进行
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