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本文采用磁控溅射法，研究了衬底材质对ZnOx薄膜生长的影响。利用XRD、SEM等手段对ZnOx薄膜结构及表面形貌进行了表征，结果表明TiOx膜层最有利于获得结晶良好的ZnOx薄膜，ZnSnOx膜层次之。在结晶良好的ZnOx膜层表面沉积功能层Ag时，可以获得较低的面电阻值和较好的导电性能，有利于制备具有良好节能效果的低辐射薄膜。当衬底材质为SiN时，ZnOx薄膜结晶较差，并且在其表面生长的同厚度的Ag具有较高的面电阻。