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论述了在辉光放电条件下采用空心阴极效应加热进行膏剂离子渗硼的工艺方法及掺硼层性能的研究，并对其渗入机理进行了分析。
空心阴极放电膏剂离子渗硼及其性能研究
【摘 要】
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论述了在辉光放电条件下采用空心阴极效应加热进行膏剂离子渗硼的工艺方法及掺硼层性能的研究，并对其渗入机理进行了分析。
【机 构】
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太原理工大学表面工程研究所
【出 处】
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太原理工大学学报
【发表日期】
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1998年6期
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