铜离子注入对半导体BaTiO_3陶瓷PTCR特性的影响

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应用阻抗谱,结合阻温特性测量分析铜离子注入(110KeV,6×1015和1×1017ions/cm2)半导体BaTiO3陶瓷的PTCR特性。结果表明,注入剂量较低时,可以提高材料的PTCR效应。认为注入的铜离子以Cu2+和Cu+同时存在于BaTiO3材料晶界处并发生电子转移,起着电子陷阱作用。 The PTCR characteristics of BaTiO3 ceramics with Cu ion implantation (110KeV, 6 × 1015 and 1 × 1017ions / cm2) were measured and analyzed by impedance spectroscopy. The results show that the PTCR effect of the material can be improved when the dosage is low. It is considered that Cu2 + and Cu + ions implanted at the grain boundary of BaTiO3 material at the same time have the effect of electron trapping.
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