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掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能.尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成.以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合.同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象.
同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚
【摘 要】
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掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能.尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成.以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度
【机 构】
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应用光学国家重点实验室,中国科学院高能物理研究所
【出 处】
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高能物理与核物理
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家重点实验室基金;
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