【摘 要】
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采用脉冲激光沉积技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)衬底上制备了Ga、F共掺杂的ZnO透明导电薄膜.采用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、原子力显微镜和霍尔测试仪等手段对薄
【机 构】
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复旦大学材料科学系 上海200433
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采用脉冲激光沉积技术在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)衬底上制备了Ga、F共掺杂的ZnO透明导电薄膜.采用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、原子力显微镜和霍尔测试仪等手段对薄膜性能进行了表征.制备过程中通过控制沉积时间、Ga掺杂量、衬底温度和氧气流量等实验条件,比对研究了各参数对薄膜性能的影响.为了分析各参数对实验结果影响的重要性,采用正交实验法设计实验,并对结果进行正交分析、极差方差分析.得出了各个实验条件对结果影响的大小顺序和最优的制备条件.结果表明,掺杂量和沉积时间对于薄膜的光电性能影响较大,Ga掺杂量取1.0％(原子比),且沉积时间较短的薄膜透光率较好;Ga掺杂量取1.0％,且沉积时间较长的薄膜导电性能较好.
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