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通过吸附试验,X-射线光电子能谱(XPS)和俄歇电子能谱(AES)、浮选试验、系统地研究了糊精在萤石和方解石表面作用行为,结果发现,方解石经糊精作用前后CaLMM俄歇参数变化值为0.80eV,变化显著,这说明糊精与方解石表面作用为化学键合;而萤石经糊精处理前后CaLMM俄歇参数变化值为-0.20eV,变化不明显,说明糊精与萤石表面化学作用很弱,更接近物理作用-氢键作用;浮选试验结果证实了测试结果可