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对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述 ,同时对一些常用的清洗方案进行了浅析 ,并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。
硅片清洗原理与方法综述
【摘 要】
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对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述 ,同时对一些常用的清洗方案进行了浅析 ,并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。
【机 构】
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电子四十六所!天津300220,电子四十六所!天津300220,电子四十六所!天津300220,电子四十六所!天津300220
【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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2000年02期
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