热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响

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用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中地样品薄膜作250℃-400℃的热处理试验。用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构。这种结构变化导致在300℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收。在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小。
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