电化学工艺技术

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AquiVia技术专为穿,透硅通孔(TSV)内电解沉积保形、一致的绝缘层和阻挡层而设计,TSV深宽比达到10:1。结合Alchimer公司eG Via Coat技术,AquiVia能够利用同一套设备完成沉积绝缘层、阻挡层和籽晶层。
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