PLD法制备纳米类金刚石薄膜及衬底温度的影响

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【摘要】

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利用脉冲激光沉积(PLD)技术在O2氛围下于α-Al2O3(0001)基片上制备出纳米类金刚石薄膜.借助扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和Raman光谱分析了薄膜的形貌和结构随沉

【作者】

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欧阳钢郭建颜晓红

【机构】

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湘潭大学材料与光电物理学院

【出处】

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光电子·激光

【发表日期】

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2004年12期

【关键词】

：

衬底温度类金刚石薄膜脉冲激光沉积 RAMAN光谱分析基片生长机理形貌制备纳米 Α-AL2O3 nanoscale diamond-like thi

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利用脉冲激光沉积(PLD)技术在O2氛围下于α-Al2O3(0001)基片上制备出纳米类金刚石薄膜.借助扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和Raman光谱分析了薄膜的形貌和结构随沉积时衬底温度的变化情况.结果表明:随着衬底温度的升高,薄膜颗粒尺寸减少;在衬底温度为550℃时,所制备的薄膜均匀、光滑,且大约是由14 nm大小的颗粒组成.对薄膜的生长机理作出了分析.

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