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本文研究了用脉冲激光沉积（PLD）法制备ZnO薄膜，给出了在不同氧压下生长氧化锌（ZnO）薄膜的XRD谱、表面的AFM图以及电阻率、迁移率、载流子浓度以及导电类型等电学特性，为探索制备P型ZnO薄膜提供实验依据。
氧压对用PLD法生长氧化锌薄膜的电学特性的影响
【摘 要】
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本文研究了用脉冲激光沉积（PLD）法制备ZnO薄膜，给出了在不同氧压下生长氧化锌（ZnO）薄膜的XRD谱、表面的AFM图以及电阻率、迁移率、载流子浓度以及导电类型等电学特性，为探索制备P型
【机 构】
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江西师范大学理电学院,华南农业大学理学院
【出 处】
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中国材料科技与设备
【发表日期】
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2007年4期
【基金项目】
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江西省自然科学基金资助项目（0512016）
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