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透明导电膜在电气及光学领域的应用日益广泛。近年来以掺杂Ｓｎ的Ｉｎ２Ｏ３（简称ＩＴＯ）开发和应用受到重视。用ＩＳＯ靶通过溅射法制备ＩＴＯ透明导电膜。由金属铟制取氧化铟粉末，后与氧化锡混合、压制烧结制出相对密度达９５％的ＩＴＯ靶材。
透明导电膜及靶材
【摘 要】
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透明导电膜在电气及光学领域的应用日益广泛。近年来以掺杂Ｓｎ的Ｉｎ２Ｏ３（简称ＩＴＯ）开发和应用受到重视。用ＩＳＯ靶通过溅射法制备ＩＴＯ透明导电膜。由金属铟制取氧化铟粉末，后与氧化锡混合、压制烧结制出
【机 构】
：
北京有色金属研究总院;
【出 处】
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电子元件与材料
【发表日期】
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1998年01期
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