Effect of Ar on Polycrystalline Si Films Deposited by ECR-PECVD using SiH4

来源 :材料科学技术学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：bigxiong

【摘要】

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<正>In this paper,polycrystalline silicon films were deposited by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition(ECR-PECVD)using SiH_4/A

【作者】

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Hua CHENG Aimin WU Nanlin SHI

【机构】

：

InstituteofMetalResearch,DalianUniversityofTechnology,ArmorTechniqueInstituteofPLA

【出处】

：

材料科学技术学报：英文版

【发表日期】

：

2008年5期

【关键词】

：

多晶体硅薄膜 SIH4 沉淀物电子回旋加速器蒸气 Ar flow rate ECR-PECVD Poly-Si Thin Films

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<正>In this paper,polycrystalline silicon films were deposited by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition(ECR-PECVD)using SiH_4/Ar and SiH_4/H_2 gaseous mixture.Effects of argon flow rate on the deposition efficiency an

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