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抛光盘、抛光头转速比对化学机械抛光效果的影响分析
抛光盘、抛光头转速比对化学机械抛光效果的影响分析
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wg_fo
【摘 要】
:
针对化学机械抛光(CMP)过程中,抛光盘、抛光头转速比不同,其晶片的抛光效果不同的现象,从运动学角度详细分析了CMP过程中晶片上任一点的去除速度和运动轨迹,并通过Matlab进行仿
【作 者】
:
高慧莹
费玖海
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2011年5期
【关键词】
:
化学机械抛光
转速比
去除速度
运动轨迹
Chemical Mechanical Polishing
Rotation speed ratio
Moving
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针对化学机械抛光(CMP)过程中,抛光盘、抛光头转速比不同,其晶片的抛光效果不同的现象,从运动学角度详细分析了CMP过程中晶片上任一点的去除速度和运动轨迹,并通过Matlab进行仿真,找出转速比与去除速度和运动轨迹的函数关系。
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