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期刊论文
GaAs衬底层选择性腐蚀技术
GaAs衬底层选择性腐蚀技术
来源 :光电子.激光 | 被引量 : 0次 | 上传用户:siquan
【摘 要】
:
本文在GaAsGaAlAs选择性腐蚀的基础上进行了腐蚀GaAs衬底层获得GaA/GaAlAs外延层薄膜的二次腐蚀技术。最终选用了C3H4(OH)(COOH)3.H2O-H2O2系选择性腐蚀液和H2SO4-H2O2系腐蚀液,获得了快速,可控制,重复性好的可全部可局部去除衬底的腐蚀方法
【作 者】
:
杨建义
王明华
【机 构】
:
浙江大学信息与电子工程学系
【出 处】
:
光电子.激光
【发表日期】
:
1998年1期
【关键词】
:
选择性腐蚀
砷化镓
衬底
GaAs/GaAlAsselectiveetching
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本文在GaAsGaAlAs选择性腐蚀的基础上进行了腐蚀GaAs衬底层获得GaA/GaAlAs外延层薄膜的二次腐蚀技术。最终选用了C3H4(OH)(COOH)3.H2O-H2O2系选择性腐蚀液和H2SO4-H2O2系腐蚀液,获得了快速,可控制,重复性好的可全部可局部去除衬底的腐蚀方法。
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