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采用PT法探究几种常见热带兰栽培基质有效氮、磷、钾释放及pH变化情况。结果表明：整个试验阶段所有处理基质pH变化在5．24～6．88，适合大多数花卉生长，水苔受外界环境影响最大，有着较大的pH变化，不适宜热带兰长期栽培。各基质的养分释放并不是按一定规律来进行，混合基质养分释放量低于纯基质，混合基质可以避免纯基质养分释放量大的弊端。NH4^＋-N的释放遵循类似“U”型曲线变化，火山石与松树皮混合有利于NO3^--N的释放。前60d内，A与B处理磷的释放变化较大，60d后磷含量表现为下降变化，直至趋于平缓，不