【摘 要】
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本法用X荧光“NRLXRF”程序,仅需一个固体薄膜标准或滤纸片薄样混合标准就可测定原子比从0.x—8范围的Nb-Ge超导薄膜试样,其准确度能达到经验系数法的水平。用纯元素块状标样
【机 构】
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本法用X荧光“NRLXRF”程序,仅需一个固体薄膜标准或滤纸片薄样混合标准就可测定原子比从0.x—8范围的Nb-Ge超导薄膜试样,其准确度能达到经验系数法的水平。用纯元素块状标样测定了Nb Ge薄膜及高温合金Ae-Cr-Si和Ti-Cr Si薄膜试样,也得到了满意的结果。方法均已投入了实际试样的配合分析。
This method uses an X-fluorescence “NRLXRF” program to determine the atomic ratio of Nb-Ge superconducting thin film samples in the range of 0.x-8 with only one solid film standard or filter paper thin-film mixed standard, with the accuracy of The level of empirical coefficient method. The Nb Ge thin films and the samples of high temperature alloys Ae-Cr-Si and Ti-Cr Si films were also measured with the pure element bulk samples. Satisfactory results were also obtained. Methods have been put into the actual sample with the analysis.
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