AMD研究成果超越半导体行业2009性能预测

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AMD 2003年9月18日,AMD研究人员在东京举行的固态设备和材料国际研讨会上,详细介绍了其新型三闸极式晶体管的创新发明,该晶体管采用了下一代绝缘硅(SOI)和高级金属门技术。这一创新为半导体技术发展指明了一条道路。 AMD表示,这种独特设计使其比目前已发布的任何多门设计在性能上提高 AMD On September 18, 2003, AMD researchers at the International Symposium on Solid-State Devices and Materials in Tokyo introduced in detail the innovative invention of its new tri-gate transistor using next-generation silicon on insulator (SOI) and Advanced metal door technology. This innovation points the way for the development of semiconductor technology. AMD said that this unique design makes it more than the performance of any multi-door design has been released
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