层间化合物hNB—Cu稳定性的理论研究

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以分子簇为模型,用从头算方法,在6-31G^*基组水平上对六方氮化硼(hBN)进行几何全优化,再用优化构型对Cu的六方氮化硼层间化合物(hNB-Cu)做单点计算,根据计算结果,从层间距、Mulliken布居、轨道相互作用、原子净电荷及前线轨道等角度分析了hBN-Cu的电子结构及其稳定性,通过劝分析计算确认了这一层间化合物只是一个介稳结构,阐明了Cu使六方氮化硼陶瓷致密化的作用机理以及hNB-Cu的弱抗氧化性。
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