【摘 要】
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黑硅结构具有优异的陷光性能,能够有效减少太阳能电池片表面的光学损耗,是目前光伏产业的重点研究项目.本文采用Ag/Cu双原子两步金属辅助化学刻蚀（MACE）工艺,通过调节Ag/Cu摩尔
【机 构】
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辽宁工程技术大学材料科学与工程学院
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黑硅结构具有优异的陷光性能,能够有效减少太阳能电池片表面的光学损耗,是目前光伏产业的重点研究项目.本文采用Ag/Cu双原子两步金属辅助化学刻蚀（MACE）工艺,通过调节Ag/Cu摩尔比、刻蚀温度、刻蚀时间以及 H2O2 的浓度制备出了高效的单晶黑硅陷光结构,并系统研究了黑硅结构的形成机理及其对硅片表面反射率的影响规律.利用场发射扫描电镜观察了样品的表面形貌,利用分光光度计测试了样品表面的漫反射光谱.结果表明,当Ag/Cu摩尔比为1/10,刻蚀温度为60 ℃,刻蚀时间为30 s,H2O2的浓度为0.6
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