Characteristics of Amorphous Silicon Nitride Films Deposited by LF-PECVD from SiH4/N2

来源 :半导体光子学与技术：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ericc0123

【摘要】

：

Amorphous silicon nitride films were deposited by low-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition(LF-PECVD) using silane and nitrogen as precursors. Cha

【作者】

：

ZHONG Zhi-qin ZHANG Yi YU Zhi-

【机构】

：

StateKeyLaboratoryofElectronicThinFilmsandIntegratedDevices

【出处】

：

半导体光子学与技术：英文版

【发表日期】

：

2009年3期

【关键词】

：

氮化硅薄膜 PECVD法形貌特征等离子体增强化学气相沉积非晶硅低频 X射线光电子能谱沉积速率 SiNx SE AFM XPS PECVD

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Amorphous silicon nitride films were deposited by low-frequency plasma-enhanced chemical vapor deposition(LF-PECVD) using silane and nitrogen as precursors. Characteristics such as deposition rate, surface morphology, and chemical composition were measure

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