Ti1-xAlxN涂层LPCVD过程模拟中的热力学计算

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【摘要】

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本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-xAlxN相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-xAlxN涂层的LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition

【作者】

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王少卿陈响明杜勇王社权

【机构】

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中南大学粉末冶金国家重点实验室,湖南长沙,410083;株洲钻石切削刀具股份有限公司,湖南株洲,412007

【出处】

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硬质合金

【发表日期】

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2013年6期

【关键词】

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CVD Ti1-xAlxN coating thermodynamic calculation

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本文通过Thermo-Calc相图热力学计算软件建立了包含亚稳Fcc-Ti1-xAlxN相的Ti-Al-N三元体系的热力学模型,并对Ti1-xAlxN涂层的LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition)过程进行了计算模拟.研究了AlCl3,NH3和H2等反应气体成分变化对涂层中的Al含量的影响,理论预测结果与文献报道的实验结果吻合良好.利用计算模拟手段探究了富Al-Ti1-xAlxN涂层的沉积过程,并预测了富Al-Ti1-xAlxN涂层中的Al含量随反应气体成分以及沉积温度改变的变化情况.发现适当增加AlCl3、NH3/H2值及沉积温度均可提高涂层中的Al含量.

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