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当前的社会是一个高速发展的社会，其主要依赖的就是科技的进步。而在当前的科技中，最为高端的就是微电子产业。其承载的主要作用就是制作一些精密的电子仪器。尤其是手机，电脑一类，但是在进行微电子产品制作的时候，却存在着很多的问题，其中主要是对于硅片的清洗工作。因为微电子中使用的硅片一般体积较小，这就让清洗的工作变得非常的困难。如果更好的进行硅片的清洗就成为了当前最为重要的一个课题。本文就从当前的微电子清洗情况进行探究，来得出如何更好的在微电子工艺领域进行清洗技术的应用。