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利用碳薄膜作为模板,采用能量1.2keV的Ar离子束室温溅射的方法制备了大面积高密度的硅纳米圆锥。硅纳米圆锥的密度约为（1—2）×109/cm2。场发射性能测量结果表明硅纳米圆锥阵列的场发射性能和碳纳米纤维的场发射性能相当,比已经报道的硅纳米圆锥的场发射性能更好。
Ar离子溅射诱导硅纳米圆锥阵列的场发射性能
【摘 要】
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利用碳薄膜作为模板,采用能量1.2keV的Ar离子束室温溅射的方法制备了大面积高密度的硅纳米圆锥。硅纳米圆锥的密度约为（1—2）×109/cm2。场发射性能测量结果表明硅纳米圆锥
【机 构】
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台州学院物理与材料工程系
【出 处】
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科学技术与工程
【发表日期】
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2010年17期
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