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利用Ｂｅａｍ Ｐｒｏｐａｇａｔｉｏｎ Ｍｅｔｈｏｄ（ＢＰＭ）方法研究了深亚微米同步辐射Ｘ射线光刻中的掩模吸收体的光导波效应，并且利用瑞利－索末非理论对光刻胶表现的空间像光强分布进行了计算。研究结果表明基尔霍夫边界条件不宜用于计算０．２５μｍ以下光刻分辨率空间像光强分布。研究结果还表示北京同步辐射装置３Ｂ１Ａ光刻束线的光刻分辨率可以达到０．１μｍ，而且这时金吸收体厚度为０．４５μｍ就可以了，而不是通