【摘 要】
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利用微波等离子体化学气相沉积法,以H2/CH4/CO2为混合气源,在Si基底上沉积金刚石膜,分析了微波功率和CO2对金刚石膜生长的影响。利用Raman光谱、扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍
【机 构】
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武汉工程大学材料科学与工程学院,中国科学院等离子体物理研究所
【基金项目】
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湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目（Q20151517）, 武汉工程大学科学研究基金项目（K201506）
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利用微波等离子体化学气相沉积法,以H2/CH4/CO2为混合气源,在Si基底上沉积金刚石膜,分析了微波功率和CO2对金刚石膜生长的影响。利用Raman光谱、扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射（XRD）表征金刚石膜,以得到样品质量、表面形貌、晶粒取向等信息。结果表明：适当提高微波功率,可以促进金刚石晶粒长大并提高（100）取向度;加入适量CO2,能提高金刚石膜质量和生长速率,并保持表面形貌不会发生明显变化,但随着CO2含量的增加,金刚石表面形貌发生较大变化,薄膜质量和沉积速率先提高后降低。
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