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通过在过氧化氢化学氧化法和KMnO4-H2O2氧化法制备硫酸石墨插层化合物的基础上,详细讨论了其物理性质,如物相分析、热分析、红外谱图分析、导电性和低温比热的性质等.其中XRD研究表明石墨的表面氧化对插层反应是必不可少的.TG和DTA分析表明过氧化氢氧化法制备产物插层反应完全.IR谱进一步确证热分析的结果.低温比热研究表明在某些温区发生相变,十分“类似于“纳米材料的低温比热行为.