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本文介绍了射频（Radio frequency,RF）感应耦合等离子体（Inductive couple plasma, ICP）离子束源的设计研究。该射频离子束源可工作于Ar，在使用四栅引出系统时，可获得100-1000eV的离子束。当射频功率为900W，在心为工作气体时，束流可达到600mA。在束流为120mA时，距源26cm处，在主轴方向27cm的范围内不均匀性小于±6％。该离子束源可作为大面积离子束刻蚀、离子束抛光等的离子束源。