CdZnT e晶片表面化学抛光研究

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yulinfeng93

【摘要】

：

采用不同浓度的Br2-MeOH作为抛光液对CdZnTe进行化学抛光,发现用2%Br2-MeOH腐蚀时速率平稳且易于控制,能有效去除表面划痕,获得光亮表面.AFM分析发现,抛光后表面粗糙度降低30

【作者】

：

汪晓芹介万奇杨戈

【机构】

：

西北工业大学材料科学与工程学院

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2005年5期

【关键词】

：

CdZnTe 化学抛光腐蚀速率平均粗糙度表面组成缺陷

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采用不同浓度的Br2-MeOH作为抛光液对CdZnTe进行化学抛光,发现用2%Br2-MeOH腐蚀时速率平稳且易于控制,能有效去除表面划痕,获得光亮表面.AFM分析发现,抛光后表面粗糙度降低30%,平整度增加.XPS分析发现CdZnTe的(111)Cd极性面变成了富Te非极性表面.PL分析发现表面陷阱态密度降低,表面晶格的完整性增强.

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