【摘 要】
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为了满足材料在饮料、啤酒等包装领域方面的要求,在PET材料内壁涂覆氧化硅薄膜是一种十分有效的方法.本文分别使用磁控溅射法和微波等离子体化学气相沉积法(PECVD)在PET材料
【机 构】
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武汉工程大学材料科学与工程学院等离子体化学与新材料重点实验室,
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为了满足材料在饮料、啤酒等包装领域方面的要求,在PET材料内壁涂覆氧化硅薄膜是一种十分有效的方法.本文分别使用磁控溅射法和微波等离子体化学气相沉积法(PECVD)在PET材料表面制备了氧化硅薄膜,通过结果分析,对两种方法从原理、各自优点等方面进行了比较,并就沉积时间、工作气压、电源功率对各自所沉积薄膜阻隔性的影响作了相应分析,得出了两种方法各自的最佳工艺条件.
In order to meet the requirement of material in the fields of beverage, beer and other packaging, it is a very effective method to coat silicon oxide film on the inner wall of PET material.In this paper, magnetron sputtering and microwave plasma chemical vapor deposition (PECVD) Silicon oxide films were prepared on the surface of PET materials. The results of the two methods were compared from the principle and their respective advantages. The influences of deposition time, working pressure and power on the barrier properties of the deposited films were also studied Correspondingly, the best conditions of the two methods are obtained.
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