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一、前言 已硼烷（B2H6）是一种带有类似硫化氢臭味的易燃易爆剧毒气体，在空气中的最高允许浓度为0.1ppm（按美国ACGIH1963年标准，我国尚未制定）。在半导体技术中，乙硼烷用作外延工艺的气相掺杂源、扩散工艺的扩散源和离子注入源，它通常用氢、氮、氩等气体稀释后使用。市售的乙硼烷钢瓶含量一般从百分之几到百分之零点几。直接用于半导体工艺的乙硼烷气体，根据使用要求的不同，含量从几ppm至几百ppm。在贮存过程中，由于乙硼烷化学性质比较活泼，易于水解、氧化及分解，含量会逐渐降低。为了准确地控制工艺条件，对稀