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以茎尖为外植体，进行小西瓜离体快繁研究，建立了小西瓜茎尖再生体系。结果表明：小西瓜种子发芽的最适培养基为2FeMS；最适茎尖丛芽诱导培养基为MS1＋BA1～2mg／L＋IAA0．01mg／L，增殖系数高；最适继代培养基为MS4＋BA0．2mg／L＋NAA0．05mg／L；不定芽在培养基1／2MS＋0．05mg／LIAA上生根良好。