沈阳拓荆科技研发化学气相沉积设备CVD

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作为国内领先的CVD设备供应商,拓荆由中国科学院所属公司和一批海外归国的技术专家于2010年共同创立。公司主要致力于研发生产创新、先进的化学气相沉积设备(CVD),帮助全球的半导体制造商生产集成电路器件,推动消费类和工业电子产品的发展。拓荆的PECVD设备己在中国两家客户生产线上通过量产验证,并接到了重复订单。
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